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最火镀膜设备上复合靶及复合多镀层研究

发布时间:2021-10-13 03:16:26 阅读: 来源:葡萄酒发酵罐厂家

镀膜设备上复合靶及复合多镀层研究

镀膜设备上复合靶及复合多镀层研究

      镀膜设备上复合靶及复合多镀层研究,采用复合镀层(多元镀层)及多层镀层是提高结合强度、基体载荷能力及基体和镀层匹配等性能的有效途径,可以极大地改善镀层的可靠性和使用寿命。在氮化钛中加入铝,达到Ti:Al为50:50,导致形成复合氮化物,并使抗氧化温度由氮化钛的550℃,增加到(Ti,AI)N(50:50)的700℃。镀(Ti,AI)N(50:50)的钻头寿命为镀TiN的两倍。捷克有人采用加钪靶的磁控溅射技术获得含钪的TiC和TiN镀层,因钪的固溶强化提高了TiC和TiN镀层的硬度。美国Nothwesten大学的研究表明,MoNx,CrNx和NbNx镀层呈现出良好的摩擦工艺性能,据ASD公司最新研究报告显示β-Mo2N镀层能提高接触疲劳强度,TiN/N对洛氏硬度计校订结果bN多层多晶镀层具有高达5200HV的硬度。英国有人研制了用不平衡磁控溅射沉积制备MoS2及金属复合层的设备和工艺方法,这种复合沉积层在金属切削和成形加工的应用中都取得了很好的效果。

       在有些情况下,不易得到大面积均匀的合金靶、化合物靶,这时可以采用由单组元构成的复合靶或镶嵌靶1.调剂实验装置。用这种形式的复合靶已成功地制取了Ta-Ti合金、Tb-Dy-Fe及Gb-Co合金膜等。扇块镶嵌结构效果最好,易于控制膜的成分,重复性也好。而磁控溅射复合靶一般采用镶嵌结构。从原理上讲,不仅二元合金膜,且三元、四元等多元合金膜都可以用这种方法制取。

       下面以扇块靶为例,讨论由几种组元镶嵌块构成的复合靶,溅射成膜的成分。设其中各种组元的3.同期活动溅射产额及所占靶表面面积的百分比分别为Y1,a1; Y2,a2; Y3,a3;…;Yn,an。那么,溅射膜中各组元的质量比为Y1 a1μ1, Y2 a2μ2,Y3 a3μ3,…,Yn anμn。其中,μ1,μ1,…,μn是合金中各种组元的相对原子质量,而且a1 + a2+a3+…+an=1。

       采用这种形式的复合靶或镶嵌靶也会出现一些问题。例如,如果构成复合靶的各种合金组元溅射产额相差很大,在溅射过程中,溅射产额大的会沉积在溅射产额小的靶成分的表面,这样就不能保证形成的膜达到所要求的合金组分。此外,如果镶嵌的块数太少,则基片处在不同位置,获得膜的成分也会不一样。为了尽量减少这种差别,一般要使靶或基片旋转。

       东莞市汇成真空科技有限公司致力于研发和生产真空镀膜机,真空镀膜设备广泛应用于汽车、玻璃、塑胶、电子、钟表、五金等行业,产品广销全球,为客户提供定制化的工艺解决方案和真空镀膜设备。

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